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    半导体产业中如何使用臭氧

    来源:www.tonglinkeji.com.cn 作者:同林臭氧 时间:2020-05-29 11:31

    半导体产业中如何使用臭氧

    近年来,在半导体工业中,对臭氧应用的兴趣大大增加。迄今为止,已经确立了将臭氧用于清洁晶片的用途。利用了臭氧在水相中氧化有机和金属污染物的事实。
    臭氧在半导体工业中的应用包括
    +湿法清洁
    +TEOS 
    +CVD 
    +干洗
    +疏水性

    硅片清洗过程中的主要流程,通过臭氧水在硅片表面形成氧化膜,然后利用HF(氟化酸)去除氧化膜,并使用SC1、SC2去除颗粒及金属污染,最后,再使用臭氧水在硅片表面形成氧化膜,防止硅片表面再受污染。

    北京同林提供高浓度臭氧发生器,臭氧浓度可达300mg/L,臭氧水浓度可50ppm~100ppm。