半导体产业中如何使用臭氧
近年来，在半导体工业中，对臭氧应用的兴趣大大增加。迄今为止，已经确立了将臭氧用于清洁晶片的用途。利用了臭氧在水相中氧化有机和金属污染物的事实。
臭氧在半导体工业中的应用包括
+湿法清洁
+TEOS
+CVD
+干洗
+疏水性
硅片清洗过程中的主要流程，通过臭氧水在硅片表面形成氧化膜，然后利用HF(氟化酸)去除氧化膜，并使用SC1、SC2去除颗粒及金属污染， 很后，再使用臭氧水在硅片表面形成氧化膜，防止硅片表面再受污染。
北京同林提供高浓度臭氧发生器，臭氧浓度可达300mg/L，臭氧水浓度可50ppm~100ppm。
