PLD / ALD 臭氧源 · 设备与工艺配套
同林科技 Tonglin Ozone Systems 010-82461830

APEX 02 高浓度臭氧源

半导体专用,单通道 0.1–1.5 SLM,出口浓度 0–400 g/Nm³。氧气进气、水冷散热、闭环浓度控制,为 PLD、ALD、CVD 与湿法设备提供稳定的高浓度臭氧。

SEMI-GRADE O₃ SOURCE

APEX 02

模块化集成结构,整机满足半导体洁净与材料兼容要求,出口臭氧浓度与流量可分别调节。

0–400 g/Nm³出口臭氧浓度
0.1–1.5 SLM单通道气体流量
15–35 psi工作压力
30 kg整机重量

技术参数

项目参数
品牌 / 型号同林 · APEX 02
通道数量1 个
单通道气体流速0.1–1.5 SLM
臭氧浓度0–400 g/Nm³
气源氧气
冷却方式水冷(<20 ℃,>4 L/min)
工作压力15–35 psi
工作温度0–40 ℃
电源380 V
进出口接头1/4"
重量30 kg

特点

  • 臭氧浓度可达 400 g/Nm³,流量与浓度可分别调节。
  • 闭环控制,浓度与流量按工艺配方分别设定。
  • 全不锈钢内腔、无移动部件与润滑脂,减少颗粒引入与金属析出,适配半导体前道对气源洁净度的要求。
  • 模块化结构,调试与维护便捷,降低停机时间与使用成本。
  • 臭氧检测仪与质量流量计可选配,与 J5000、F3 组成完整回路。

适用设备

半导体 CVD、ALD、PLD、湿法设备等。推荐按下列方式配套:

环节配套设备
出气计量质量流量计(腔体入口前选配)
浓度核验3S-J5000 臭氧浓度检测仪
泵前分解F3 臭氧尾气分解器
取样末端F800 臭氧分解器

需要 400 g/Nm³ 还是更低浓度段?

告诉我们腔体条件与工艺目标浓度,我们给出流量、压力与配套件的具体配置。