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    日本FA-2000用于半导体工业的臭氧气体发生器

    来源:www.tonglinkeji.com.cn 作者:同林臭氧 时间:2024-09-11 11:44

    FA-2000用于半导体工业的臭氧气体发生器

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    优势

    由于我们独特的方法使用石英双管放电单元,清洁和干燥的臭氧气体无金属产生污染物或湿气。

    高浓度臭氧气体由专用电源产生。

    用途

    各种半导体清洗装置

    臭氧灰化装置

    TEOS臭氧- cvd设备

    用于各种半导体的臭氧-水发生器

    放电原理

    FA系列石英双管,电极间有介质,可防止金属粉尘。

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    重金属含量分析

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    高纯度氧源规格

    臭氧放电压力:0.07~0.20MPa

    臭氧浓度:~270g/m(N)

    发电量可调范围:5~100%

    氧气纯度:99.95 ~ 99.9999%

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