日本半导体工艺臭氧水生产设备广泛的适应范围,从浓度到 100ppm,从流速到 60L/min。 可根据各种要求进行定制。大流量、高浓度的臭氧水生成装置。 欢迎定制。 适合清洗、电阻剥离应用,也是单片式清洗装置的理想选择。清洁臭氧水,无金属污染我们不使用金属作为液体接触部分。 可生产出适合半导体清洗的